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簡要描述：筱曉(上海)光子技術(shù)有限公司是一家被上海市評為高新技術(shù)企業(yè)的專業(yè)光學(xué)服務(wù)公司，業(yè)務(wù)涵蓋設(shè)備代理以及項(xiàng)目合作研發(fā)，建有*的AOL(Advanced Optical Labs)光學(xué)實(shí)驗(yàn)室，為國內(nèi)外客戶提供專業(yè)技術(shù)支持服務(wù)IR拋光FZ級(Si)硅窗片 1.2-15um (10.0×2mm 窗口片)
產(chǎn)品型號：廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時(shí)間：2024-12-08訪 問 量：818詳細(xì)介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組成要素 | 半導(dǎo)體激光器產(chǎn)品及設(shè)備 | 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,建材,電子 |
光學(xué)級硅通常規(guī)定為具有5至40ohm-cm的電阻率，其電阻率比大多數(shù)半導(dǎo)體的都高。 非常高的電阻率材料可客戶定制，te別是對于TeraHertz應(yīng)用。
通常的材料為CZ(Czochralski級提拉法生成)，其在9μm具有Si-O吸收帶，因此如果在3至5μm光譜帶中使用該窗口，則此性質(zhì)不重要。 如果需要FZ(Float Zone級材料)，可以提供沒有這種吸收的（FZ）工藝的材料。
硅主要用作3至5um波段的光學(xué)窗口并用作光學(xué)濾波器的制片基底。 具有拋光面的大塊硅也用作物理實(shí)驗(yàn)中的中子靶。
硅通過Czochralski提拉法技術(shù)（CZ）生長并且包含一些導(dǎo)致9um的吸收帶的氧。 為了避免這種情況，硅可以通過（FZ）工藝制備。 光學(xué)硅通常輕摻雜（5~40 Ohm cm），以在10um以上的波段好的透射。
硅具有30至100um的另一通帶，其僅在非常高電阻率的未補(bǔ)償材料中有效。 摻雜通常是硼（p型）和磷（n型）。
透射范圍： | 1.2?15μm（1） |
折射率： | 3.4223 @5μm（1）（2） |
反射損耗： | 46.2％@5μm（2個(gè)表面） |
吸收系數(shù)： | 0.01cm -1 at 3μm |
吸收峰： | n / a |
dn / dT： | 160×10-6 /℃（3） |
dn /dμ= 0： | 10.4μm |
密度： | 2.33g / cc |
熔點(diǎn)： | 1420℃ |
熱導(dǎo)率： | 273.3W m-1 K-1 |
熱膨脹： | 2.6×10 -6 /℃ at 20℃ |
硬度： | Knoop 1150 |
比熱容： | 703JKg-1K-1 |
介電常數(shù)： | 13 at 10GHz |
楊氏模量（E）： | 131GPa（4） |
剪切模量（G）： | 79.9GPa（4） |
體積模量（K）： | 102GPa |
彈性系數(shù)： | C11 = 167; C12 = 65; C44 = 80（4） |
表觀彈性極限： | 124.1MPa（18000 psi） |
泊松比： | 0.266（4） |
溶解性： | 不溶于水 |
分子量： | 28.09 |
類別/結(jié)構(gòu)： | 立方鉆，F(xiàn)d3m |
折射率:(No = Ordinary Ray)
µm | No | µm | No | µm | No |
1.357 | 3.4975 | 1.367 | 3.4962 | 1.395 | 3.4929 |
1.5295 | 3.4795 | 1.660 | 3.4696 | 1.709 | 3.4664 |
1.813 | 3.4608 | 1.970 | 3.4537 | 2.153 | 3.4476 |
2.325 | 3.4430 | 2.714 | 3.4358 | 3.000 | 3.4320 |
3.303 | 3.430 | 3.500 | 3.4284 | 4.000 | 3.4257 |
4.258 | 3.4245 | 4.500 | 3.4236 | 5.000 | 3.4223 |
5.500 | 3.4213 | 6.000 | 3.4202 | 6.500 | 3.4195 |
7.000 | 3.4189 | 7.500 | 3.4186 | 8.000 | 3.4184 |
8.500 | 3.4182 | 10.00 | 3.4179 | 10.50 | 3.4178 |
11.04 | 3.4176 |
硅CZ圓形窗片:
訂購型號 | 規(guī)格（D×L） | 材料類型 | 應(yīng)用光譜范圍 |
SICZP10-0.5 | 10.0×0.5mm | CZ | IR polished |
SICZP25-2 | 25.0×2.0mm | CZ | IR polished |
SICZP25.4-1 | 25.4×1.0mm | CZ | IR polished |
SICZP25.4-4 | 25.4×4.0mm | CZ | IR polished |
| SICZP25.4-7W | 25.4mm ? x 7mm CT 7.5° 楔形 | CZ | IR polished |
SICZP30-2 | 30.0×2.0mm | CZ | IR polished |
SICZP30-2AR | 30.0×2.0mm AR | CZ | IR polished |
SICZP32-3D | 32.0×3.0mm 打孔 | CZ | IR polished |
SICZP32-3 | 32.0×3.0mm 未打孔 | CZ | IR polished |
SICZP50-3 | 50.0×3.0mm | CZ | IR polished |
硅FZ圓形窗片:
訂購型號 | 規(guī)格（D×L） | 材料類型 | 應(yīng)用光譜范圍 |
| SIFZP10-2 | 10.0×2.0mm | FZ | IR |
SIFZP12-1 | 12.0×1.0mm | FZ | IR |
SIFZP13-1 | 13.0×1.0mm | FZ | IR |
SIFZP15-1 | 15.0×1.0mm | FZ | IR |
SIFZP25.4-0.5 | 25.4×0.5mm | FZ | IR |
SIFZP25.4-1 | 25.4×1.0mm | FZ | IR |
SIFZP30-2 | 30.0×2.0mm | FZ | IR |
| SIFZP30-3 | 30.0×3.0mm | FZ | IR |
矩形CZ級硅Si窗片:
訂購型號 | 規(guī)格（L×W×H） | 材料類型 | 應(yīng)用光譜范圍 |
SICZP25-15-2 | 25.0×15.0×2.0mm | CZ | IR |
| SICZP50-50-10NEUT | 50mm x 50mm x 10mm N-type (111) 硅 (Si) 塊單面拋光，用于中子反射率 (Neutron Reflectivity) | CZ | IR |
公司簡介
筱曉(上海)光子技術(shù)有限公司是一家被上海市評為高新技術(shù)企業(yè)的專業(yè)光學(xué)服務(wù)公司，業(yè)務(wù)涵蓋設(shè)備代理以及項(xiàng)目合作研發(fā)，公司位于大虹橋商務(wù)板塊，擁有接近2000m2的辦公區(qū)域，建有500平*的AOL(Advanced Optical Labs)光學(xué)實(shí)驗(yàn)室，為國內(nèi)外客戶提供專業(yè)技術(shù)支持服務(wù)。公司主要經(jīng)營光學(xué)元件、激光光學(xué)測試設(shè)備、以及光學(xué)系統(tǒng)集成業(yè)務(wù)。依托專業(yè)、強(qiáng)大的技術(shù)支持，以及良好的商務(wù)支持團(tuán)隊(duì)，筱曉的業(yè)務(wù)范圍正在逐年增長。目前業(yè)務(wù)覆蓋國內(nèi)外各有名高校、*科研機(jī)構(gòu)及相關(guān)領(lǐng)域等諸多企事業(yè)單位。筱曉擁有一支核心的管理團(tuán)隊(duì)以及專業(yè)的研發(fā)實(shí)驗(yàn)室，奠定了我們在設(shè)備的拓展應(yīng)用及自主研發(fā)領(lǐng)域堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。
主要經(jīng)營
激光器/光源
半導(dǎo)體激光器（DFB激光器、SLD激光器、量子級聯(lián)激光器、FP激光器、VCSEL激光器）
氣體激光器（HENE激光器、氬離子激光器、氦鎘激光器）
光纖激光器（連續(xù)激光器、超短脈沖激光器）
光學(xué)元件
光纖光柵濾波器、光纖放大器、光學(xué)晶體、光纖隔離器/環(huán)形器、脈沖驅(qū)動(dòng)板、光纖耦合器、氣體吸收池、光纖準(zhǔn)直器、光接收組件、激光控制驅(qū)動(dòng)器等各種無源器件
激光分析設(shè)備
高精度光譜分析儀、自相關(guān)儀、偏振分析儀，激光波長計(jì)、紅外相機(jī)、光束質(zhì)量分析儀、紅外觀察鏡等
光纖處理設(shè)備
光纖拉錐機(jī)、裸光纖研磨機(jī) 
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