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產(chǎn)品分類(lèi)
Product Category超寬中紅外光束質(zhì)量分析儀(不帶M2測(cè)試,光敏面:15.3×12.2mm) 產(chǎn)品描述: 筱曉光子的紅外光束質(zhì)量分析儀,可以實(shí)現(xiàn)1.2-15μm范圍內(nèi)的光斑探測(cè)和參數(shù)分析,空間分析精度可達(dá)10μm量級(jí),具有超感光范圍、超大靶面、超高分辨率、多功能軟件等特點(diǎn)。
超寬中紅外光束質(zhì)量分析儀(帶M2測(cè)試,光敏面:10.8×8.7mm) 產(chǎn)品描述: 筱曉光子的紅外光束質(zhì)量分析儀,可以實(shí)現(xiàn)1.2-15μm范圍內(nèi)的光斑探測(cè)和參數(shù)分析,空間分析精度可達(dá)10μm量級(jí),具有超感光范圍、超大靶面、超高分辨率、多功能軟件等特點(diǎn)。
BladeCam2-HR CMOS基礎(chǔ)型光斑分析儀相機(jī) 355-1150nm 產(chǎn)品應(yīng)用 連續(xù)激光的光束分析 激光和激光系統(tǒng)的現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試 光學(xué)組裝和儀器校準(zhǔn) 光束漂移和記錄 使用 M2DU 平臺(tái)測(cè)量 M²
FS70-TH 用于半導(dǎo)體檢測(cè)顯微鏡 (1X管鏡頭 可調(diào)光通比 C-mount接口)(觀察儀) 應(yīng)用: 切割、修整、校正、 給半導(dǎo)體電路做標(biāo)記 薄膜(絕緣膜) 清潔與加工、液晶彩色濾光器的修復(fù)(校正錯(cuò)誤)。 還可用作光學(xué)觀察剖面圖以便探針?lè)治霭雽?dǎo)體故障。 ? 可用于紅外光學(xué)系統(tǒng)*。
CUBE-ER100偏振消光比測(cè)試儀 總覽 CUBE-ER100是一款基于旋轉(zhuǎn)偏振器的偏振消光比(PER)測(cè)量?jī)x,適用于光纖和自由空間光學(xué)應(yīng)用。由于其緊湊的尺寸和高達(dá)每秒50點(diǎn)的快速測(cè)量速度,它可以很容易地集成到保偏光纖自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)中。
FS70Z-TH 用于半導(dǎo)體檢測(cè)顯微鏡 (1x-2x管鏡頭 C-mount) (觀察儀) 應(yīng)用: 切割、修整、校正、 給半導(dǎo)體電路做標(biāo)記 薄膜(絕緣膜) 清潔與加工、液晶彩色濾光器的修復(fù)(校正錯(cuò)誤)。 還可用作光學(xué)觀察剖面圖以便探針?lè)治霭雽?dǎo)體故障。 ? 可用于紅外光學(xué)系統(tǒng)*。
BladeCam2-HR-UV CMOS基礎(chǔ)型光斑分析儀相機(jī) 190-1150nm 產(chǎn)品應(yīng)用 連續(xù)激光的光束分析 激光和激光系統(tǒng)的現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試 光學(xué)組裝和儀器校準(zhǔn) 光束漂移和記錄 使用 M2DU 平臺(tái)測(cè)量 M²
BladeCam2-XHR-ND4 CMOS基礎(chǔ)型光斑分析儀相機(jī) 355-1150nm 產(chǎn)品應(yīng)用 連續(xù)激光的光束分析 激光和激光系統(tǒng)的現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試 光學(xué)組裝和儀器校準(zhǔn) 光束漂移和記錄 使用 M2DU 平臺(tái)測(cè)量 M²